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GM2000/04中試型膠體磨

簡要描述:

GM2000/04中試型膠體磨
中試型膠體磨,中試型高剪切膠體磨,中試型管線式高剪切膠體磨,中試型分體式管線式高剪切膠體磨是一款是生產型設備配套的中試型膠體磨,是生產型設備參數的縮放。中試型膠體磨轉速Z高可達14000rpm,是國產的3-4倍。

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GM2000/04中試型膠體磨

GM2000/04中試型膠體磨

實驗室膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過實驗室膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

GM2000/04中試型膠體磨

我們的磨頭的結構:溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質的區別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
GM2000/4實驗室膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000/4實驗室膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。GM2000/4實驗室膠體磨的定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

在一般的情況下,我們的機械密封可以zui大承受16bar壓力,根據機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar,這就決定我們的入口zui大壓力可以達到12-13bar.

同時機械密封的使用壽命和以下因素有關:

滿足以下條件使得機械密封的使用壽命更長:

-可允許的壓力比率

-充份的冷卻和濕度

-材料的合適搭配.

機械密封本身會產生磨損和破裂.磨損得主要原因是:

-壓力差

-溫度

-分散物料的腐蝕性

-密封的材料

 

轉速:

7890/13789RPM可以通過變頻調速通過皮帶加速我們軸承可以承受140000RPM(轉速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細度更小)。

SGN膠體磨結構:

三道磨碎區,一級為粗磨碎區,二級為細磨碎區,三級為超微磨碎區。雖然都是三級結構,但是他們的設計不同理念不同,形狀及齒列的結構。

SGN膠體磨磨頭的結構:

溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質的區別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
實驗室膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。

公司另外一項*的創新,就是錐體磨GMO2000系列,它的設計使其功能在原有的GM2000的基礎上又進了一步。由于這項創新,GMO2000能夠濕磨和研磨,產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨GM2000還小。研磨間隙可以無級調節,從而可以得到精確的研磨參數。研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨GM的效果更加理想。


GM2000/4(LP系列)為實驗室膠體磨的技術參數:功率1.5-2.2KW,轉速0-14000rpm,線速度0-40m/s,電壓380V,機器產量為0–700升/小時(水),重量35KG,尺寸(長寬高)(450X250X350)MM,LP使用軸封(PTFE環),在正常的情況下,一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時連續使用,一般zui多可以使用連續半個小時,這要依據料液的溫度和轉速而定。LP也可以通過變換模塊,可以實現多功能多用途,是實驗室中試生產的選擇。

 

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